电路板涂胶后如何维修,

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于电路板涂胶后如何维修的问题，于是小编就整理了4个相关介绍电路板涂胶后如何维修的解答，让我们一起看看吧。

1. 请问洗衣机电脑板上的密封透明胶用普通的玻璃胶封闭代替可以吗？
2. 方糖3拆解？
3. 光刻机和蚀刻机有什么区别？
4. 9801胶怎么用？

请问洗衣机电脑板上的密封透明胶用普通的玻璃胶封闭代替可以吗？

你 好！可以代替使用，玻璃胶能起到密封绝緣的作用，但是要清洁好密封部位的表面，不能有油污和尘土，涂胶24小时后可使用，温度低时要推后使用时间。

延长固化时间，使密封绝縁更好。

方糖3拆解？

答：A，方糖的底部有一层胶膜，撕开后还是打不开盒子的，拆开需要直接撬开前面板。前面板的主要受力还是那层双面胶，可以用吹风机适当加热再拆，面板上无卡口，边缘有涂胶，直接暴力拆开就行。

B，在拆下主电路板之前，需要先拆出电源板，否则主板上的有一个螺丝会被这个电源板挡住。电源板上有测试点和u***接口的预留。

C，拆下电源板之后，开始拆主板，主板上有四颗螺丝，在方糖底部的胶膜下正好有四个对应螺丝刀下刀的孔位，

注意，主板和外壳之间除了四颗螺丝之外还有一层双面胶连接，直接用力掰下即可。该双面胶除了固定主板之外，还起到两个mic头的密闭作用，以便更好的声音***集。

D，主板上有屏蔽罩，需要热风枪。

光刻机和蚀刻机有什么区别？

谢谢邀请！

光刻机和蚀刻机有什么区别？

这样的答题必须要有专业的人才懂，高端芯片制作工艺光刻和蚀刻机这不是谁都懂的，你也许是专业行家，本人是搞染料化工的，相差十万八千里，那就等于是我问你核潜艇的主要结构，你能回答吗？邀人答题那也要看看邀请对像才行。还连续邀请，这不是强人所难吗？再见！

其实从字面表面意思就能看出来，无论是这两个其中的哪种机器，用在芯片制造上都有很大的帮助，也是芯片制造的主要方式。随着时间的推进，现在的光刻技术出现两种趋势，一个是光刻机，一种是蚀刻机。

光刻机是芯片制造行业的主要载体。他的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，把需要刻制的东西编码完成，用光刻技术刻到上面。从而达到保存的效果。光刻机上面是光照部，中间是掩膜版，最后是需要刻制的载体。

光刻机发展至今，目前已经有了很多种形式，但工作原理大同小异，没什么区别。而且国内现在已经有了自主产权，发展前景很不错。

蚀刻机与光刻机比起来就有些粗糙了，他是直接把内容刻在载体上，对载体表面进行侵蚀从而达到刻录的目的。目前国内的蚀刻机有两种，干刻和湿刻，但是工作原理都相同，利用离子与电压的结合，达到刻录的目的。

最近中兴***作为导火索，引发了国人关于芯片讨论，其中不免涉及到了芯片制造业两大至关重要的技术，蚀刻机和光刻机，作为一个业余爱好者，我为大家分享一下我知道的东西。

什么是光刻机

光刻机作为制造芯片的核心装备之一，因为用途的不同，分为生产芯片的光刻机，用于封装的光刻机，还有LED领域的投影光刻机，目前主要讨论的是用于生产芯片的光刻机，这也是芯片领域，我国最薄弱的环节。

先了解一下光刻中必须要用的东西——光刻胶，简单的来说这种胶状物，只能被光腐蚀，而不能被化学物质腐蚀，制造芯片时讲光刻胶涂在金属表面，然后用光把不需要的地方腐蚀掉，制作出自己需要的图形（电路结构之类的），接下来就该蚀刻机上场了。

什么是蚀刻机

蚀刻分为两类，一类是干刻，一类是湿刻（目前主流），湿刻就是特定的化学溶液与上个部分光刻机制作后的薄膜发生反应，发生反应过后剩下的东西，就是需要的东西了，这个过程有液体接触，所以叫湿刻。

干刻更加高级，目前并没有大规模应用，它是通过等离子电浆去除未覆盖的薄膜。

光刻机 ASML一枝独秀

以前光刻机领域还有佳能尼康制衡ASML，不过随着技术差距越来越多，目前高端光刻机市场被ASML垄断，7nm级别光刻机17年的产量只有12台，一台1.2亿美元，还要提前21个月预订，中国就算排队，也不知道哪年买得到，背地里还有有些国家作怪，目前国产光刻机还处于90nm阶段，任重道远。

五大蚀刻机厂商 中微是其一

目前能生产7nm级别蚀刻机的有应用材料，科林研发，东京威力科创，日立先端，中微半导体五家公司，中微是唯一一家中国企业，并且已经开始向台积电供货，中微也代表着中国顶尖的半导体技术。

中国半导体起步晚，需要走的路还很长，不过中国人最不缺的就是毅力，只有坚持不懈方能厚积薄发。

光刻机：光刻机按照用途划分，有被厂商用于生产芯片的前道光刻机，有被厂商用于封装的后道光刻机（封装光刻机），有被厂商用于制造LED产品的投影光刻机。一般地，我们时常所谈到的光刻机，指的是前道光刻机。厂商在生产芯片的过程中，需要利用光刻机将掩膜版（台湾业者们称作光罩）上的电路图形“复印”到硅晶圆片上。光刻工艺，指的是厂商在平整的硅片上构建半导体MOS管和电路的基础，利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将掩膜版上的电路图形传递到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。由于在晶圆的表面上，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻工艺也是芯片制造中最核心的环节。光刻工艺的价值巨大，整个光刻工艺的设备有匀胶显影设备和光刻设备，光设机的价格是最昂贵的。在行业中有影响力的光刻机制造厂商包括荷兰的ASML，日本的尼康和佳能等。

光刻机：光刻机按照用途划分，有被厂商用于生产芯片的前道光刻机，有被厂商用于封装的后道光刻机（封装光刻机），有被厂商用于制造LED产品的投影光刻机。一般地，我们时常所谈到的光刻机，指的是前道光刻机。厂商在生产芯片的过程中，需要利用光刻机将掩膜版（台湾业者们称作光罩）上的电路图形“复印”到硅晶圆片上。光刻工艺，指的是厂商在平整的硅片上构建半导体MOS管和电路的基础，利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将掩膜版上的电路图形传递到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。由于在晶圆的表面上，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻工艺也是芯片制造中最核心的环节。光刻工艺的价值巨大，整个光刻工艺的设备有匀胶显影设备和光刻设备，光设机的价格是最昂贵的。在行业中有影响力的光刻机制造厂商包括荷兰的ASML，日本的尼康和佳能等。

简单的回答。

光刻机划线，刻蚀机雕刻。

目前荷兰10纳米光刻机世界第一，中国目前光刻机是90纳米，也有说是28纳米的，总之，光刻机差距很大。目前刻蚀机中国5纳米世界第一，据说7纳米齐驱并驾的刻蚀机还有3家。

9801胶怎么用？

1.涂敷操作应在通排风良好条件下进行，防止接触明火。

2.当环境气压较低，湿度较大时，应将电路板，元器件等置于60℃烘箱内烘烤30分钟，去除湿气，趁热取出涂敷，则漆膜光泽明亮，效果更佳。

3.在进行第二次涂敷时，确保第一次涂敷的胶层完全固化后再进行操作。

4.操作现场所用工具必须保持干燥，清洁。涂敷过程中禁忌与水、灰尘等接触。

5.在使用过程中随溶剂的挥发其黏度逐渐变稠，可用专用稀释剂进行稀释。

1、将粘接面打毛粗糙并清理干净，用清洗剂洗涤表面；
2、用红外灯烘烤表面使溶剂尽快挥发；
3、涂胶：
     按比例将胶液与固化剂混合均匀；
     将胶均匀而薄地涂在粘接的两个面上2~3遍，每一遍要用红外灯烘烤晾干后再涂。
4、待胶膜微粘手时。即可粘合。接头要对准压实，并用手锤由中间向四周均匀锤压数遍，排除中间的空气，
     并用排钉固定；
5、粘接后静置20~30分钟，冷却至室温即可使用。若延长固化时间，效果好。
注：* 混合后的胶液一定要一次性用完。

到此，以上就是小编对于电路板涂胶后如何维修的问题就介绍到这了，希望介绍关于电路板涂胶后如何维修的4点解答对大家有用。